金融界2025年7月30日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于光刻过程中的多参数感测的多通道锁相相机”的专利，公开号CN120390909A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，一种量测系统可以包括照射系统、相机和分析器系统。所述照射系统朝向目标发送照射。所述照射具有与对应的多个调制频率相关联的多个照射参数。所述相机从所述目标接收散射照射，并且按照所述相机的每个像素生成用所述多个调制频率的识别标志编码的测量信号。所述分析器系统按照所述相机的每个像素基于所述多个调制频率解调所述测量信号，输出与所述调制频率相对应的所述测量信号的解调分量的相位、幅度或者所述相位和幅度。
